관련자료
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제품선택
	계면활성제 3M의 계면활성제는 buffered oxide etch (BOE) and metal etch solutions, photoresists, photoresist strippers and edge bead removers, anti-reflective coatings, spin-on glass films 등과 같은 용도에 적합하며 높은 환경및 인적 무해성으로 PFOS의 계면활성제를 대체할 수 있습니다.
	냉매 각종 발열 장비 및 부품의 일정한 온도관리를 위한 Thermal Management으로서 불활성 불소화합물이므로 배관의 녹이 발생하지 않는 등 매우 많은 이점을 가지고 있습니다.
	리튬이온 배터리 재료 리튬이온 2차전지에 사용되는 재료로서 양극활물질 및 전해액용 Salts 등이 있습니다.
	세정제 반도체산업에서의 CVD Chamber, Wafer 등과 모든 전자산업에서 필요한 각종 세정제로서 3M의 불활성 불소화합물은 탁월한 성능을 발휘합니다. 또한 낮은 오존파괴지수와 지구온난화지수를 가지고 있는 친환경적인 제품이며 높은 절연성을 가지고 있어서 Short가 전혀 발생하지 않습니다.
	솔벤트 각종 윤활제 및 코팅액에 대한 우수한 솔벤트 성능을 가지고 있어서 광범위하게 용제로서 사용가능하며 불활성으로서 Non-Flammable 성능을 발휘합니다.
	코팅 민감한 전자 부품의 코팅을 위해 최적화된 제품으로 적용이 쉽고 빠르게 건조되며 Anti-wetting, Anti-stiction, Anti-migration, Anti-corrosion 성능을 가집니다.
	테스트용액 3M의 불소화합물은 높은 열적 안정성, 불활성 및 절연성을 가지고 있어서 침전상태에서도 민감한 전자 부품의 품질 테스트가 가능합니다.
	포토레지스트용 Photo Acid Generator(PAG) 3M은 반도체에 사용되는 포토레지스트용 Photo Acid Generator(PAG) Anion을 가지고 있으며 여러 Cation과 혼합하여 최적의 PAG를 만들 수 있습니다.